在晶体管、集成(cheng)电(dian)路生(sheng)产(chan)(chan)(chan)中，纯水(shui)(shui)主(zhu)要用(yong)(yong)于清洗(xi)(xi)硅片(pian)，清洗(xi)(xi)的(de)(de)目的(de)(de)在于清除表面污染杂质(zhi)，包括(kuo)有机物(wu)和(he)无(wu)机物(wu)，另有少(shao)量(liang)用(yong)(yong)于药液配(pei)制(zhi)，硅片(pian)氧化的(de)(de)水(shui)(shui)汽(qi)源，部分设备(bei)的(de)(de)冷却水(shui)(shui)，配(pei)制(zhi)电(dian)镀液等。集成(cheng)电(dian)路生(sheng)产(chan)(chan)(chan)过程中的(de)(de)80%的(de)(de)工序需要使用(yong)(yong)高纯水(shui)(shui)清洗(xi)(xi)硅片(pian)，水(shui)(shui)质(zhi)的(de)(de)好坏与集成(cheng)电(dian)路的(de)(de)产(chan)(chan)(chan)品质(zhi)量(liang)及生(sheng)产(chan)(chan)(chan)成(cheng)品率(lv)关系很大。河南万达环保(bao)生(sheng)产(chan)(chan)(chan)的(de)(de)超纯水(shui)(shui)设备(bei)用(yong)(yong)于硅片(pian)生(sheng)产(chan)(chan)(chan)等电(dian)子半导体行业(ye)，能(neng)满(man)足客户(hu)的(de)(de)用(yong)(yong)水(shui)(shui)要求。

电子半导体(ti)行业用(yong)纯(chun)水(shui)设备工(gong)艺(yi)介绍：

1.原水→原水加压泵(beng)→多(duo)介(jie)质过(guo)(guo)滤(lv)(lv)器(qi)→活性炭(tan)过(guo)(guo)滤(lv)(lv)器(qi)→加药装置→精密(mi)过(guo)(guo)滤(lv)(lv)器(qi)→高(gao)(gao)压泵(beng)1→一级反渗(shen)透→中间水箱(xiang)→高(gao)(gao)压泵(beng)2→二级反渗(shen)透→纯(chun)化水箱(xiang)→纯(chun)水泵(beng)→紫外线杀(sha)菌(jun)器(qi)→微孔过(guo)(guo)滤(lv)(lv)器(qi)→用水点
2.原水(shui)→原水(shui)加压泵→多介质过滤(lv)器(qi)→活(huo)性炭(tan)过滤(lv)器(qi)→加药(yao)装置→精密过滤(lv)器(qi)→高压泵1一级反(fan)渗透机→中(zhong)间水(shui)箱→中(zhong)间水(shui)泵→EDI系统→纯化(hua)水(shui)箱→纯水(shui)泵→紫(zi)外线杀菌器(qi)→微(wei)孔过滤(lv)器(qi)→用水(shui)点

河(he)南万达(da)环(huan)保(bao)电子半导(dao)体行(xing)业用纯水设备产品特点：

1.连(lian)续运行(xing)产水质稳定品质更佳。
2.系统运行可靠性稳定。
3.运行成本低(di)。
4.占地面(mian)积(ji)小(xiao)。
5.自动化程度高。
6.操作及维护(hu)简单，无需接触酸碱(jian)。
7.使用安全及环境(jing)良好。
8.无(wu)污水排放，无(wu)环境(jing)污染。

河(he)南万达环保电子半导体行业用纯(chun)水(shui)设备产品参数：

1.电导(dao)率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水温度：5～35℃
4.总硬度(du)：<0.5ppm
5.有机物(wu)：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化物：≤0.05ppm
7.铁、锰(meng)：<0.01ppm
8.二氧化硅：<0.05 ppm
9.二(er)氧化(hua)碳：<5ppm