在晶体管、集(ji)(ji)成(cheng)电路(lu)生产(chan)(chan)中，纯(chun)水(shui)(shui)主要用(yong)(yong)于(yu)(yu)清洗硅(gui)片(pian)，清洗的(de)目的(de)在于(yu)(yu)清除表(biao)面污染杂质，包括(kuo)有机物和无机物，另有少量(liang)用(yong)(yong)于(yu)(yu)药液(ye)配制，硅(gui)片(pian)氧化的(de)水(shui)(shui)汽(qi)源(yuan)，部分设备的(de)冷却水(shui)(shui)，配制电镀液(ye)等(deng)。集(ji)(ji)成(cheng)电路(lu)生产(chan)(chan)过程(cheng)中的(de)80%的(de)工(gong)序需要使用(yong)(yong)高纯(chun)水(shui)(shui)清洗硅(gui)片(pian)，水(shui)(shui)质的(de)好坏与集(ji)(ji)成(cheng)电路(lu)的(de)产(chan)(chan)品(pin)质量(liang)及生产(chan)(chan)成(cheng)品(pin)率(lv)关系很(hen)大。河南(nan)万达环保(bao)生产(chan)(chan)的(de)超(chao)纯(chun)水(shui)(shui)设备用(yong)(yong)于(yu)(yu)硅(gui)片(pian)生产(chan)(chan)等(deng)电子半导体行业，能(neng)满足客户的(de)用(yong)(yong)水(shui)(shui)要求(qiu)。

电子半导(dao)体(ti)行业用纯水设备工艺介绍：

1.原水→原水加压(ya)泵→多介质过(guo)(guo)滤器(qi)(qi)→活性炭过(guo)(guo)滤器(qi)(qi)→加药装置→精密过(guo)(guo)滤器(qi)(qi)→高压(ya)泵1→一级反渗(shen)透→中(zhong)间水箱→高压(ya)泵2→二级反渗(shen)透→纯(chun)化水箱→纯(chun)水泵→紫外线杀菌(jun)器(qi)(qi)→微孔过(guo)(guo)滤器(qi)(qi)→用水点
2.原水(shui)(shui)(shui)→原水(shui)(shui)(shui)加(jia)压泵(beng)(beng)(beng)→多介(jie)质过(guo)滤(lv)器(qi)→活(huo)性(xing)炭过(guo)滤(lv)器(qi)→加(jia)药装置→精密过(guo)滤(lv)器(qi)→高压泵(beng)(beng)(beng)1一(yi)级反渗透(tou)机→中间水(shui)(shui)(shui)箱→中间水(shui)(shui)(shui)泵(beng)(beng)(beng)→EDI系统→纯化水(shui)(shui)(shui)箱→纯水(shui)(shui)(shui)泵(beng)(beng)(beng)→紫外线(xian)杀菌器(qi)→微(wei)孔过(guo)滤(lv)器(qi)→用水(shui)(shui)(shui)点

河南万达环保(bao)电(dian)子(zi)半(ban)导体行(xing)业(ye)用(yong)纯水设备产(chan)品特点：

1.连续运(yun)行产水质稳定品质更(geng)佳。
2.系统运行可靠(kao)性稳定(ding)。
3.运行(xing)成本低。
4.占地(di)面积小(xiao)。
5.自动化(hua)程度(du)高。
6.操作(zuo)及(ji)维护简单，无需(xu)接触酸(suan)碱。
7.使用安(an)全及环境良好。
8.无(wu)污(wu)水(shui)排(pai)放(fang)，无(wu)环(huan)境污(wu)染(ran)。

河南万(wan)达环保电子半(ban)导(dao)体(ti)行业用纯(chun)水设(she)备产品参数：

1.电导率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值(zhi)：6.5－9
3.水温度：5～35℃
4.总硬度(du)：<0.5ppm
5.有机(ji)物(wu)：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化物(wu)：≤0.05ppm
7.铁、锰(meng)：<0.01ppm
8.二氧化(hua)硅：<0.05 ppm
9.二氧化碳(tan)：<5ppm