在晶体管、集成电路生产(chan)中(zhong)(zhong)，纯水(shui)主要(yao)用于(yu)清(qing)洗硅(gui)片，清(qing)洗的(de)(de)目的(de)(de)在于(yu)清(qing)除表面(mian)污染杂质，包括有机物和无机物，另(ling)有少(shao)量(liang)用于(yu)药液(ye)配制(zhi)，硅(gui)片氧化(hua)的(de)(de)水(shui)汽(qi)源，部分设备(bei)(bei)的(de)(de)冷(leng)却水(shui)，配制(zhi)电镀液(ye)等。集成电路生产(chan)过程中(zhong)(zhong)的(de)(de)80%的(de)(de)工序需要(yao)使用高纯水(shui)清(qing)洗硅(gui)片，水(shui)质的(de)(de)好坏与集成电路的(de)(de)产(chan)品质量(liang)及生产(chan)成品率关系很(hen)大(da)。河南万(wan)达环(huan)保生产(chan)的(de)(de)超纯水(shui)设备(bei)(bei)用于(yu)硅(gui)片生产(chan)等电子半导体行业(ye)，能满足客户的(de)(de)用水(shui)要(yao)求。

电子(zi)半导体行业用(yong)纯水设备(bei)工(gong)艺(yi)介绍：

1.原水→原水加压泵(beng)(beng)→多介质过(guo)滤(lv)器(qi)→活性(xing)炭过(guo)滤(lv)器(qi)→加药(yao)装置→精密过(guo)滤(lv)器(qi)→高压泵(beng)(beng)1→一级(ji)反(fan)渗透→中(zhong)间水箱(xiang)→高压泵(beng)(beng)2→二级(ji)反(fan)渗透→纯化水箱(xiang)→纯水泵(beng)(beng)→紫外线杀菌器(qi)→微孔过(guo)滤(lv)器(qi)→用(yong)水点
2.原水→原水加(jia)压(ya)泵(beng)(beng)→多(duo)介质过滤(lv)器(qi)(qi)→活性(xing)炭(tan)过滤(lv)器(qi)(qi)→加(jia)药(yao)装置→精密过滤(lv)器(qi)(qi)→高压(ya)泵(beng)(beng)1一级反(fan)渗透机→中间水箱(xiang)→中间水泵(beng)(beng)→EDI系统→纯化水箱(xiang)→纯水泵(beng)(beng)→紫(zi)外线杀菌器(qi)(qi)→微孔(kong)过滤(lv)器(qi)(qi)→用水点

河南万达环保电子半导(dao)体行业(ye)用纯水设备产品特点：

1.连续运(yun)行(xing)产水质稳定品质更佳。
2.系统运(yun)行可靠性稳定。
3.运(yun)行成本(ben)低。
4.占地(di)面积小(xiao)。
5.自动化程度高。
6.操作及维护简单(dan)，无需(xu)接触(chu)酸碱。
7.使(shi)用安全及(ji)环境良(liang)好。
8.无污水排放，无环(huan)境污染(ran)。

河南万(wan)达环保(bao)电子半导体行业用纯(chun)水设(she)备产品参数(shu)：

1.电导率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水温度：5～35℃
4.总硬度：<0.5ppm
5.有机物：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化物：≤0.05ppm
7.铁(tie)、锰(meng)：<0.01ppm
8.二氧化硅：<0.05 ppm
9.二氧化碳：<5ppm