在晶体管、集成(cheng)电(dian)(dian)路(lu)生(sheng)产(chan)中，纯(chun)水(shui)(shui)主要用于清(qing)(qing)洗(xi)硅(gui)片(pian)，清(qing)(qing)洗(xi)的(de)目(mu)的(de)在于清(qing)(qing)除表面(mian)污染(ran)杂(za)质，包括有机物和无(wu)机物，另有少量(liang)用于药(yao)液(ye)(ye)配(pei)制，硅(gui)片(pian)氧化的(de)水(shui)(shui)汽源，部分设(she)备(bei)的(de)冷却水(shui)(shui)，配(pei)制电(dian)(dian)镀(du)液(ye)(ye)等。集成(cheng)电(dian)(dian)路(lu)生(sheng)产(chan)过程(cheng)中的(de)80%的(de)工序需要使用高纯(chun)水(shui)(shui)清(qing)(qing)洗(xi)硅(gui)片(pian)，水(shui)(shui)质的(de)好坏与(yu)集成(cheng)电(dian)(dian)路(lu)的(de)产(chan)品质量(liang)及(ji)生(sheng)产(chan)成(cheng)品率关系很大。河南(nan)万达环保生(sheng)产(chan)的(de)超(chao)纯(chun)水(shui)(shui)设(she)备(bei)用于硅(gui)片(pian)生(sheng)产(chan)等电(dian)(dian)子半导体行业，能满足客户(hu)的(de)用水(shui)(shui)要求。

电子半导(dao)体行业用纯水设备工(gong)艺(yi)介(jie)绍：

1.原水→原水加压(ya)泵(beng)(beng)→多(duo)介质过滤(lv)器→活性(xing)炭过滤(lv)器→加药装置(zhi)→精(jing)密过滤(lv)器→高(gao)压(ya)泵(beng)(beng)1→一(yi)级反渗透(tou)→中间水箱→高(gao)压(ya)泵(beng)(beng)2→二级反渗透(tou)→纯化水箱→纯水泵(beng)(beng)→紫外线杀菌(jun)器→微孔过滤(lv)器→用水点
2.原水(shui)(shui)→原水(shui)(shui)加压泵(beng)→多介(jie)质过(guo)滤器(qi)→活性炭过(guo)滤器(qi)→加药装(zhuang)置(zhi)→精密过(guo)滤器(qi)→高压泵(beng)1一(yi)级反渗透(tou)机→中(zhong)间(jian)水(shui)(shui)箱(xiang)→中(zhong)间(jian)水(shui)(shui)泵(beng)→EDI系统→纯化水(shui)(shui)箱(xiang)→纯水(shui)(shui)泵(beng)→紫(zi)外线杀菌器(qi)→微孔过(guo)滤器(qi)→用(yong)水(shui)(shui)点

河南万达环(huan)保电(dian)子半(ban)导(dao)体行业用纯水设备产品特点：

1.连续运行产水质稳定(ding)品质更佳。
2.系统运行可靠性稳定。
3.运行成本低。
4.占地(di)面(mian)积小。
5.自动化程度高。
6.操作及维护简单，无需接触酸碱。
7.使用安全及环境(jing)良好。
8.无(wu)污水排放，无(wu)环境(jing)污染。

河南万达环保(bao)电子半导体行业用纯(chun)水设(she)备产品参数(shu)：

1.电(dian)导(dao)率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水(shui)温度：5～35℃
4.总硬度：<0.5ppm
5.有机物(wu)：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化物：≤0.05ppm
7.铁(tie)、锰：<0.01ppm
8.二(er)氧化硅：<0.05 ppm
9.二氧化(hua)碳：<5ppm