在晶体管、集(ji)成电(dian)(dian)(dian)路生产(chan)中(zhong)，纯(chun)(chun)水(shui)(shui)主(zhu)要用(yong)于清(qing)洗(xi)硅(gui)(gui)片(pian)，清(qing)洗(xi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)目的(de)(de)(de)(de)(de)(de)在于清(qing)除表面污染(ran)杂(za)质，包(bao)括有机物和无机物，另有少量(liang)(liang)用(yong)于药液配制(zhi)，硅(gui)(gui)片(pian)氧化(hua)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)水(shui)(shui)汽(qi)源，部(bu)分设(she)备的(de)(de)(de)(de)(de)(de)冷(leng)却水(shui)(shui)，配制(zhi)电(dian)(dian)(dian)镀液等(deng)。集(ji)成电(dian)(dian)(dian)路生产(chan)过程中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)80%的(de)(de)(de)(de)(de)(de)工序(xu)需要使用(yong)高纯(chun)(chun)水(shui)(shui)清(qing)洗(xi)硅(gui)(gui)片(pian)，水(shui)(shui)质的(de)(de)(de)(de)(de)(de)好坏与集(ji)成电(dian)(dian)(dian)路的(de)(de)(de)(de)(de)(de)产(chan)品(pin)质量(liang)(liang)及生产(chan)成品(pin)率(lv)关系很大(da)。河南万达(da)环保(bao)生产(chan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)超纯(chun)(chun)水(shui)(shui)设(she)备用(yong)于硅(gui)(gui)片(pian)生产(chan)等(deng)电(dian)(dian)(dian)子半导体行业(ye)，能(neng)满足客户的(de)(de)(de)(de)(de)(de)用(yong)水(shui)(shui)要求(qiu)。

电子半导(dao)体行业用纯水设备工艺介绍：

1.原水(shui)→原水(shui)加压(ya)泵→多介质过(guo)滤器(qi)→活性炭过(guo)滤器(qi)→加药装置(zhi)→精密过(guo)滤器(qi)→高(gao)压(ya)泵1→一级(ji)(ji)反(fan)渗透→中间水(shui)箱(xiang)→高(gao)压(ya)泵2→二级(ji)(ji)反(fan)渗透→纯化(hua)水(shui)箱(xiang)→纯水(shui)泵→紫(zi)外线(xian)杀菌(jun)器(qi)→微孔过(guo)滤器(qi)→用水(shui)点
2.原水(shui)(shui)→原水(shui)(shui)加(jia)压泵→多介(jie)质(zhi)过滤(lv)(lv)器(qi)→活性炭过滤(lv)(lv)器(qi)→加(jia)药装(zhuang)置→精(jing)密过滤(lv)(lv)器(qi)→高(gao)压泵1一级(ji)反(fan)渗透机→中间(jian)水(shui)(shui)箱(xiang)→中间(jian)水(shui)(shui)泵→EDI系统(tong)→纯(chun)(chun)化(hua)水(shui)(shui)箱(xiang)→纯(chun)(chun)水(shui)(shui)泵→紫外线杀菌(jun)器(qi)→微孔过滤(lv)(lv)器(qi)→用水(shui)(shui)点

河南万达环(huan)保电子半导体(ti)行业(ye)用(yong)纯水设备产(chan)品特点：

1.连续(xu)运(yun)行产水(shui)质(zhi)稳定品质(zhi)更佳。
2.系统运行可(ke)靠(kao)性稳定。
3.运行成(cheng)本低。
4.占地面积(ji)小。
5.自动化程度高(gao)。
6.操作(zuo)及维护(hu)简(jian)单，无(wu)需接触酸碱。
7.使用安全及(ji)环境(jing)良好。
8.无(wu)污水排放，无(wu)环境(jing)污染。

河南万(wan)达环保(bao)电子半导体行业用纯水(shui)设备产品参数：

1.电导率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水温度：5～35℃
4.总硬度：<0.5ppm
5.有机物：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化(hua)物(wu)：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二(er)氧(yang)化(hua)硅：<0.05 ppm
9.二氧(yang)化碳：<5ppm