在(zai)晶体(ti)管、集(ji)成(cheng)(cheng)电(dian)路(lu)生产(chan)中(zhong)，纯水(shui)(shui)主要用(yong)于(yu)清洗硅(gui)片(pian)(pian)，清洗的(de)目(mu)的(de)在(zai)于(yu)清除表面污染杂质(zhi)，包括有机物(wu)和无机物(wu)，另有少量用(yong)于(yu)药液(ye)(ye)配制，硅(gui)片(pian)(pian)氧化的(de)水(shui)(shui)汽源，部分设(she)备的(de)冷却(que)水(shui)(shui)，配制电(dian)镀液(ye)(ye)等。集(ji)成(cheng)(cheng)电(dian)路(lu)生产(chan)过程中(zhong)的(de)80%的(de)工序需要使用(yong)高纯水(shui)(shui)清洗硅(gui)片(pian)(pian)，水(shui)(shui)质(zhi)的(de)好坏(huai)与集(ji)成(cheng)(cheng)电(dian)路(lu)的(de)产(chan)品质(zhi)量及生产(chan)成(cheng)(cheng)品率关系很大。河(he)南万达(da)环保生产(chan)的(de)超纯水(shui)(shui)设(she)备用(yong)于(yu)硅(gui)片(pian)(pian)生产(chan)等电(dian)子半(ban)导体(ti)行业，能满足客户的(de)用(yong)水(shui)(shui)要求。

电子半导体行(xing)业用纯水设备工艺介(jie)绍：

1.原水(shui)(shui)→原水(shui)(shui)加(jia)压泵→多(duo)介质(zhi)过滤(lv)(lv)器→活性炭(tan)过滤(lv)(lv)器→加(jia)药装置→精密(mi)过滤(lv)(lv)器→高压泵1→一级(ji)反(fan)渗(shen)透→中间水(shui)(shui)箱(xiang)→高压泵2→二级(ji)反(fan)渗(shen)透→纯(chun)化水(shui)(shui)箱(xiang)→纯(chun)水(shui)(shui)泵→紫外线杀菌(jun)器→微(wei)孔过滤(lv)(lv)器→用水(shui)(shui)点
2.原水(shui)→原水(shui)加压(ya)泵→多介质(zhi)过(guo)滤器(qi)(qi)→活性炭过(guo)滤器(qi)(qi)→加药装置→精(jing)密过(guo)滤器(qi)(qi)→高压(ya)泵1一级反渗透(tou)机→中(zhong)间(jian)(jian)水(shui)箱(xiang)→中(zhong)间(jian)(jian)水(shui)泵→EDI系(xi)统(tong)→纯(chun)化(hua)水(shui)箱(xiang)→纯(chun)水(shui)泵→紫外线(xian)杀菌器(qi)(qi)→微孔过(guo)滤器(qi)(qi)→用水(shui)点

河南万达环(huan)保电(dian)子半导体行业用纯(chun)水设备产品(pin)特点：

1.连(lian)续运行产水(shui)质稳定品质更佳。
2.系(xi)统(tong)运行可靠性稳(wen)定。
3.运(yun)行成本低。
4.占(zhan)地面(mian)积小。
5.自动(dong)化程(cheng)度(du)高。
6.操(cao)作(zuo)及维护简(jian)单，无需(xu)接触酸碱。
7.使(shi)用安全(quan)及(ji)环境良(liang)好。
8.无污(wu)水排(pai)放，无环境污(wu)染。

河南万(wan)达环保(bao)电子半导体行业用纯水设备产品参(can)数：

1.电导(dao)率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水(shui)温度(du)：5～35℃
4.总硬度：<0.5ppm
5.有机物：<0.5 ppm,TOC为(wei)零
6.氧化物：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二(er)氧化硅：<0.05 ppm
9.二氧化(hua)碳：<5ppm