在晶体管、集(ji)成电路(lu)生(sheng)产中(zhong)，纯(chun)水(shui)主要用于(yu)清(qing)洗硅片(pian)(pian)，清(qing)洗的(de)(de)目的(de)(de)在于(yu)清(qing)除(chu)表面污染杂质，包括有机物(wu)和无机物(wu)，另(ling)有少量用于(yu)药液配制，硅片(pian)(pian)氧化(hua)的(de)(de)水(shui)汽源(yuan)，部分(fen)设(she)备的(de)(de)冷却水(shui)，配制电镀(du)液等。集(ji)成电路(lu)生(sheng)产过程中(zhong)的(de)(de)80%的(de)(de)工序需要使(shi)用高(gao)纯(chun)水(shui)清(qing)洗硅片(pian)(pian)，水(shui)质的(de)(de)好坏(huai)与集(ji)成电路(lu)的(de)(de)产品质量及(ji)生(sheng)产成品率关系很大。河南万达(da)环保(bao)生(sheng)产的(de)(de)超纯(chun)水(shui)设(she)备用于(yu)硅片(pian)(pian)生(sheng)产等电子半导体行业，能(neng)满足客户的(de)(de)用水(shui)要求。

电子半导体(ti)行业(ye)用纯水设备工艺介绍：

1.原水(shui)(shui)(shui)→原水(shui)(shui)(shui)加压泵→多(duo)介质过滤器→活性(xing)炭过滤器→加药装置→精密过滤器→高压泵1→一级(ji)反渗透(tou)→中(zhong)间水(shui)(shui)(shui)箱→高压泵2→二级(ji)反渗透(tou)→纯(chun)化水(shui)(shui)(shui)箱→纯(chun)水(shui)(shui)(shui)泵→紫外线杀(sha)菌器→微(wei)孔过滤器→用水(shui)(shui)(shui)点
2.原水(shui)(shui)→原水(shui)(shui)加(jia)压泵(beng)→多介质(zhi)过滤器→活性炭过滤器→加(jia)药(yao)装置→精密过滤器→高压泵(beng)1一级(ji)反渗(shen)透机→中间水(shui)(shui)箱(xiang)→中间水(shui)(shui)泵(beng)→EDI系统→纯化水(shui)(shui)箱(xiang)→纯水(shui)(shui)泵(beng)→紫(zi)外线(xian)杀菌(jun)器→微(wei)孔过滤器→用水(shui)(shui)点

河南万(wan)达环保电(dian)子半导(dao)体行业用纯水设备产品(pin)特点(dian)：

1.连续运行产水质稳定品质更佳。
2.系统运行可靠性(xing)稳定。
3.运行(xing)成本低。
4.占地面积小。
5.自动化程度高。
6.操(cao)作(zuo)及(ji)维护简单，无需接触酸碱。
7.使用安全及环(huan)境良好。
8.无(wu)(wu)污(wu)水(shui)排(pai)放，无(wu)(wu)环境污(wu)染。

河(he)南万(wan)达环保电子半导体行业(ye)用(yong)纯水设备产品参数(shu)：

1.电导率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值(zhi)：6.5－9
3.水温(wen)度(du)：5～35℃
4.总硬度：<0.5ppm
5.有(you)机物：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化物：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二氧(yang)化硅：<0.05 ppm
9.二氧(yang)化(hua)碳(tan)：<5ppm