在晶体管、集成电路生(sheng)产(chan)(chan)中，纯水(shui)(shui)(shui)主要用于(yu)清(qing)(qing)洗硅(gui)(gui)片(pian)，清(qing)(qing)洗的(de)(de)(de)目的(de)(de)(de)在于(yu)清(qing)(qing)除表面污染杂质(zhi)，包括有(you)机(ji)(ji)物(wu)和无机(ji)(ji)物(wu)，另有(you)少量用于(yu)药液配(pei)制，硅(gui)(gui)片(pian)氧化的(de)(de)(de)水(shui)(shui)(shui)汽源，部分设备的(de)(de)(de)冷(leng)却水(shui)(shui)(shui)，配(pei)制电镀液等。集成电路生(sheng)产(chan)(chan)过程(cheng)中的(de)(de)(de)80%的(de)(de)(de)工序需要使用高纯水(shui)(shui)(shui)清(qing)(qing)洗硅(gui)(gui)片(pian)，水(shui)(shui)(shui)质(zhi)的(de)(de)(de)好坏与集成电路的(de)(de)(de)产(chan)(chan)品质(zhi)量及生(sheng)产(chan)(chan)成品率关(guan)系很大。河南万达环保生(sheng)产(chan)(chan)的(de)(de)(de)超纯水(shui)(shui)(shui)设备用于(yu)硅(gui)(gui)片(pian)生(sheng)产(chan)(chan)等电子半导体行业(ye)，能满(man)足(zu)客户的(de)(de)(de)用水(shui)(shui)(shui)要求。

电(dian)子半导体(ti)行业用纯水设(she)备(bei)工艺介绍：

1.原水(shui)(shui)(shui)→原水(shui)(shui)(shui)加压泵(beng)(beng)→多介质(zhi)过(guo)滤(lv)器(qi)(qi)→活性炭过(guo)滤(lv)器(qi)(qi)→加药装置→精密(mi)过(guo)滤(lv)器(qi)(qi)→高(gao)压泵(beng)(beng)1→一级反(fan)渗透(tou)→中间水(shui)(shui)(shui)箱→高(gao)压泵(beng)(beng)2→二级反(fan)渗透(tou)→纯化水(shui)(shui)(shui)箱→纯水(shui)(shui)(shui)泵(beng)(beng)→紫外线杀菌器(qi)(qi)→微孔过(guo)滤(lv)器(qi)(qi)→用水(shui)(shui)(shui)点
2.原水(shui)(shui)(shui)→原水(shui)(shui)(shui)加压泵(beng)→多介质(zhi)过(guo)滤(lv)器(qi)→活性炭过(guo)滤(lv)器(qi)→加药装(zhuang)置(zhi)→精密过(guo)滤(lv)器(qi)→高压泵(beng)1一(yi)级反(fan)渗透(tou)机→中间水(shui)(shui)(shui)箱→中间水(shui)(shui)(shui)泵(beng)→EDI系统→纯化水(shui)(shui)(shui)箱→纯水(shui)(shui)(shui)泵(beng)→紫外(wai)线杀菌器(qi)→微(wei)孔过(guo)滤(lv)器(qi)→用水(shui)(shui)(shui)点

河南(nan)万达(da)环保电子(zi)半导(dao)体行业(ye)用(yong)纯水设备产品特(te)点(dian)：

1.连续运行产水质(zhi)稳定品质(zhi)更佳。
2.系统运行可(ke)靠性稳(wen)定。
3.运行(xing)成(cheng)本低。
4.占地面(mian)积(ji)小。
5.自(zi)动化程度高。
6.操作(zuo)及维护简单(dan)，无需接触(chu)酸碱。
7.使(shi)用安全及环境(jing)良好。
8.无污水(shui)排放，无环境污染。

河南万达环保电子(zi)半导(dao)体行业用纯水设备产(chan)品参数(shu)：

1.电导(dao)率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值(zhi)：6.5－9
3.水温度(du)：5～35℃
4.总硬度：<0.5ppm
5.有(you)机物：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化(hua)物：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二氧(yang)化硅：<0.05 ppm
9.二氧化碳：<5ppm