在(zai)晶体管、集(ji)成(cheng)电(dian)路(lu)生(sheng)产中，纯(chun)水(shui)主要用(yong)(yong)于清洗硅(gui)片(pian)(pian)，清洗的(de)(de)(de)(de)目的(de)(de)(de)(de)在(zai)于清除表面(mian)污染杂质(zhi)，包括有机(ji)(ji)物(wu)和(he)无机(ji)(ji)物(wu)，另有少量用(yong)(yong)于药液(ye)配(pei)制，硅(gui)片(pian)(pian)氧化的(de)(de)(de)(de)水(shui)汽源，部分设(she)备(bei)的(de)(de)(de)(de)冷却水(shui)，配(pei)制电(dian)镀(du)液(ye)等(deng)。集(ji)成(cheng)电(dian)路(lu)生(sheng)产过(guo)程中的(de)(de)(de)(de)80%的(de)(de)(de)(de)工序(xu)需要使(shi)用(yong)(yong)高纯(chun)水(shui)清洗硅(gui)片(pian)(pian)，水(shui)质(zhi)的(de)(de)(de)(de)好坏与集(ji)成(cheng)电(dian)路(lu)的(de)(de)(de)(de)产品质(zhi)量及(ji)生(sheng)产成(cheng)品率关系很(hen)大。河南万达环保生(sheng)产的(de)(de)(de)(de)超(chao)纯(chun)水(shui)设(she)备(bei)用(yong)(yong)于硅(gui)片(pian)(pian)生(sheng)产等(deng)电(dian)子半导体行业(ye)，能满足客户的(de)(de)(de)(de)用(yong)(yong)水(shui)要求(qiu)。

电子半导体行业用纯(chun)水设(she)备工艺介绍(shao)：

1.原(yuan)水(shui)(shui)(shui)→原(yuan)水(shui)(shui)(shui)加(jia)压(ya)(ya)泵→多(duo)介质过滤(lv)器→活性炭过滤(lv)器→加(jia)药装置→精密过滤(lv)器→高压(ya)(ya)泵1→一(yi)级反渗透→中间水(shui)(shui)(shui)箱(xiang)→高压(ya)(ya)泵2→二级反渗透→纯(chun)化水(shui)(shui)(shui)箱(xiang)→纯(chun)水(shui)(shui)(shui)泵→紫(zi)外线(xian)杀菌器→微孔过滤(lv)器→用水(shui)(shui)(shui)点
2.原(yuan)水→原(yuan)水加压泵(beng)(beng)→多介(jie)质(zhi)过(guo)滤(lv)(lv)器(qi)→活性炭过(guo)滤(lv)(lv)器(qi)→加药装(zhuang)置→精密过(guo)滤(lv)(lv)器(qi)→高压泵(beng)(beng)1一(yi)级反(fan)渗透机→中间(jian)水箱→中间(jian)水泵(beng)(beng)→EDI系统→纯化水箱→纯水泵(beng)(beng)→紫外(wai)线杀菌器(qi)→微孔过(guo)滤(lv)(lv)器(qi)→用水点

河南万达环(huan)保电子(zi)半导体(ti)行业用纯水设备产品特(te)点：

1.连续(xu)运行(xing)产水(shui)质稳定(ding)品质更佳。
2.系统运行可靠性稳定。
3.运行成本低。
4.占地面积(ji)小(xiao)。
5.自动化(hua)程度高。
6.操作及(ji)维护简单，无需(xu)接触(chu)酸(suan)碱。
7.使用(yong)安全及环境(jing)良好。
8.无污水排(pai)放，无环(huan)境污染。

河(he)南(nan)万(wan)达环保电子半导体行业用纯水(shui)设备产(chan)品参数：

1.电导(dao)率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水(shui)温度：5～35℃
4.总硬度：<0.5ppm
5.有机物：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化(hua)物：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二氧化硅：<0.05 ppm
9.二(er)氧化碳：<5ppm