在(zai)晶体管、集(ji)成(cheng)电(dian)(dian)路生(sheng)(sheng)产(chan)(chan)中(zhong)，纯水(shui)(shui)主要用于(yu)(yu)清(qing)(qing)洗硅片，清(qing)(qing)洗的(de)(de)(de)目的(de)(de)(de)在(zai)于(yu)(yu)清(qing)(qing)除表面(mian)污染杂质(zhi)，包括有(you)机物(wu)和(he)无机物(wu)，另有(you)少量(liang)用于(yu)(yu)药液配(pei)制，硅片氧化的(de)(de)(de)水(shui)(shui)汽(qi)源，部分设备(bei)的(de)(de)(de)冷(leng)却水(shui)(shui)，配(pei)制电(dian)(dian)镀液等。集(ji)成(cheng)电(dian)(dian)路生(sheng)(sheng)产(chan)(chan)过程中(zhong)的(de)(de)(de)80%的(de)(de)(de)工序需要使用高纯水(shui)(shui)清(qing)(qing)洗硅片，水(shui)(shui)质(zhi)的(de)(de)(de)好坏与(yu)集(ji)成(cheng)电(dian)(dian)路的(de)(de)(de)产(chan)(chan)品质(zhi)量(liang)及生(sheng)(sheng)产(chan)(chan)成(cheng)品率关系很大。河南万达(da)环保生(sheng)(sheng)产(chan)(chan)的(de)(de)(de)超纯水(shui)(shui)设备(bei)用于(yu)(yu)硅片生(sheng)(sheng)产(chan)(chan)等电(dian)(dian)子半导体行业，能满足(zu)客户的(de)(de)(de)用水(shui)(shui)要求。

电子半导体行业用(yong)纯水设备工艺介绍：

1.原水(shui)(shui)→原水(shui)(shui)加(jia)压(ya)泵(beng)→多介质过(guo)滤器→活性炭过(guo)滤器→加(jia)药装置→精密(mi)过(guo)滤器→高压(ya)泵(beng)1→一级(ji)反渗透→中间(jian)水(shui)(shui)箱(xiang)→高压(ya)泵(beng)2→二级(ji)反渗透→纯化水(shui)(shui)箱(xiang)→纯水(shui)(shui)泵(beng)→紫外线(xian)杀菌(jun)器→微孔过(guo)滤器→用水(shui)(shui)点
2.原水→原水加压泵(beng)(beng)→多介质(zhi)过滤器→活性炭(tan)过滤器→加药装置→精密过滤器→高压泵(beng)(beng)1一级反渗透机→中间(jian)水箱(xiang)→中间(jian)水泵(beng)(beng)→EDI系(xi)统→纯化水箱(xiang)→纯水泵(beng)(beng)→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点(dian)

河南万达环保(bao)电(dian)子半导体行业用纯水设备产品(pin)特点：

1.连(lian)续运行产水质稳(wen)定品(pin)质更佳。
2.系统运(yun)行可靠性稳(wen)定。
3.运行成本低(di)。
4.占地面积小。
5.自动化程度高。
6.操(cao)作及维护简单，无(wu)需接(jie)触酸碱(jian)。
7.使用安全及环境良(liang)好。
8.无(wu)污水排放，无(wu)环境污染(ran)。

河南(nan)万达(da)环保电子(zi)半(ban)导体(ti)行业用纯水设备产品参数：

1.电导(dao)率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水(shui)温度：5～35℃
4.总硬度(du)：<0.5ppm
5.有机物：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化物：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二氧化硅(gui)：<0.05 ppm
9.二氧化碳：<5ppm