在晶体管、集(ji)成(cheng)电(dian)路(lu)生产(chan)中，纯水(shui)(shui)主要(yao)用(yong)于清洗(xi)(xi)硅片，清洗(xi)(xi)的(de)(de)目的(de)(de)在于清除表面污染杂质，包括有机物(wu)和无机物(wu)，另(ling)有少量用(yong)于药液配制，硅片氧化的(de)(de)水(shui)(shui)汽源，部(bu)分(fen)设备的(de)(de)冷却水(shui)(shui)，配制电(dian)镀液等(deng)。集(ji)成(cheng)电(dian)路(lu)生产(chan)过程中的(de)(de)80%的(de)(de)工序需要(yao)使用(yong)高纯水(shui)(shui)清洗(xi)(xi)硅片，水(shui)(shui)质的(de)(de)好(hao)坏与集(ji)成(cheng)电(dian)路(lu)的(de)(de)产(chan)品(pin)质量及生产(chan)成(cheng)品(pin)率(lv)关系很(hen)大(da)。河南万达环保(bao)生产(chan)的(de)(de)超纯水(shui)(shui)设备用(yong)于硅片生产(chan)等(deng)电(dian)子(zi)半导体行业，能满足客(ke)户的(de)(de)用(yong)水(shui)(shui)要(yao)求。

电子半(ban)导体行业用纯水(shui)设备工艺(yi)介绍：

1.原(yuan)水(shui)(shui)→原(yuan)水(shui)(shui)加压(ya)泵→多(duo)介质过滤(lv)器(qi)→活性炭过滤(lv)器(qi)→加药装(zhuang)置(zhi)→精密过滤(lv)器(qi)→高压(ya)泵1→一级(ji)反(fan)渗透→中间水(shui)(shui)箱→高压(ya)泵2→二级(ji)反(fan)渗透→纯化水(shui)(shui)箱→纯水(shui)(shui)泵→紫外(wai)线(xian)杀菌(jun)器(qi)→微孔过滤(lv)器(qi)→用水(shui)(shui)点
2.原水→原水加(jia)压(ya)泵→多介质(zhi)过滤(lv)器(qi)→活性(xing)炭过滤(lv)器(qi)→加(jia)药装置→精密过滤(lv)器(qi)→高压(ya)泵1一(yi)级反(fan)渗(shen)透机→中(zhong)间水箱→中(zhong)间水泵→EDI系统→纯(chun)化(hua)水箱→纯(chun)水泵→紫外线杀(sha)菌器(qi)→微孔(kong)过滤(lv)器(qi)→用水点

河南万达环保电子半导(dao)体行业用纯(chun)水设备(bei)产(chan)品特(te)点：

1.连续运(yun)行(xing)产(chan)水质稳定品质更佳。
2.系统运行可(ke)靠性稳定(ding)。
3.运行成本低。
4.占地面积小。
5.自(zi)动化(hua)程度高。
6.操(cao)作及维护简单(dan)，无需接触酸碱。
7.使(shi)用安全(quan)及环境良好。
8.无污水(shui)排(pai)放，无环境污染。

河南万达环保(bao)电(dian)子半导体行业用纯(chun)水设备(bei)产品(pin)参数：

1.电导率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水温度：5～35℃
4.总硬度：<0.5ppm
5.有机物：<0.5 ppm,TOC为(wei)零
6.氧化(hua)物：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二氧化硅(gui)：<0.05 ppm
9.二氧(yang)化碳(tan)：<5ppm